Gate stacks
Kapitel i bok, 2010
Gate stacks
AlN buffer layer
MOSFETs
GdSiO/LaSiO
Metal gate
Författare
Olof Engström
Chalmers, Teknisk fysik, Fysikalisk elektronik
I. Z. Mitrovic
University of Liverpool
S. Hall
University of Liverpool
Bahman Raeissi
Tyndall National Institute at National University of Ireland, Cork
K. Cherkaoui
Tyndall National Institute at National University of Ireland, Cork
S Monaghan
Tyndall National Institute at National University of Ireland, Cork
H. D. B. Gottlob
Gesellschaft fur Angewandte Mikro- und Optoelektronik mbH
M.C. Lemme
Harvard University
Nanoscale CMOS: Innovative Materials, Modeling and Characterization
23 - 67
978-184821180-3 (ISBN)
Styrkeområden
Informations- och kommunikationsteknik
Nanovetenskap och nanoteknik
Ämneskategorier (SSIF 2011)
Annan elektroteknik och elektronik
DOI
10.1002/9781118621523.ch2
ISBN
978-184821180-3